Hoge resolutie 2D en 3DXStraalsysteemDe FF70 CL

Hoge resolutie 2D en 3D voor volledig automatische analyse van minimale defectenXStraalsysteem

Vanwege defecten in componenten op chips, substraten, banden of eindproducten is een optimale productie in de halfgeleiderfabriek nodig met geautomatiseerde, kwalitatief hoogwaardige, betrouwbare en snelle schadeloze inspecties en analyses. NieuwFF70 CL XHet straalendetectiesysteem is speciaal ontworpen voor de optimale geautomatiseerde analyse van de kleinste en meest veeleisende gebreken in deze monsters. Resultaat: Testen en inspecties zijn zeer nauwkeurig en herhaalbaar met uitstekende prestaties.

l Verbeterde kwaliteitsbewachting om meer locaties te controleren met een hogere resolutie om mogelijk ontbrekende fouten te identificeren

l Verbeterde productiviteit door aanzienlijk minder kosten met betere testdekking

l Betrouwbare en herhaalbare controle van de consistentie van proces- en defectparameters op elk gewenst moment

l Deze innovatieve geautomatiseerde analyseoplossing is eenvoudig te gebruiken en optimaliseert de operationele kosten

Systemcapaciteit

De FF70 CLmet een groter testgebied, dat wil zeggen,510 x 610mmen een zeer fijne detectie diepte, dat wil zeggen, minder dan150 nmIdeaal voor de automatische, schadeloze analyse van laspunten en vulgaten in 3D-geïntegreerde circuits, chips en chips.

Het innovatieve vacuümmechanisme van de systeembedieningstafel zorgt ervoor dat het monster veilig en nauwkeurig wordt gehouden tijdens het analyseproces en compenseert de effecten van de vervorming van het monster.

De FF70 CLLevert 2D (van boven naar beneden) High Performance Flat Panel Detector en 3D (van CL-Computer stratified photography) wordt automatisch geanalyseerd met behulp van een beeldversterker met hoge resolutie voor kantelbedraaiing binnen speciale bedieningscomponenten.

De nanofocus van de nieuwste generatieXStraalbuizen kunnen 2D en 3D beelden genereren die minimale ruimten en functies kunnen weergeven en meten, waardoorDe FF70 CLKan de meest veeleisende geavanceerde halfgeleiderproblemen analyseren.

Grafische gebruikersinterface (GUI-interfaceGebruiksvriendelijk en intuïtief, waardoor gebruikers gemakkelijk geautomatiseerde, multipuntige en multifunctionele analysetesters kunnen maken.

De automatische, continue achtergrondkalibratie van alle aspecten van het monitoringssysteem zorgt voor een herhaalbaarheid van de metingen die in de loop van de tijd verandert.

Lijst van systeemeigenschappen:

l Uitvoerbare geautomatiseerde analyse met hoge doorstromingen, goede herhaalbaarheid en betrouwbare resultaten

l Maak eenvoudig geautomatiseerde, multipuntige en multifunctionele analysetesters voor snelle wisselingen tussen monsters en meettaken

l Uitvoerbare voortdurende achtergrondmonitoring en -optimalisatie voor herhaalbaarheid en nauwkeurigheid van metingen

Technische gegevens